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공지사항 |
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| 미국특허제도의 최근 동향 (조회수: 3771) |
미국이 1999년도 개정법에 의하여 공개제도를 적용하는 것에 관련하여 몇가지의 미국 출원에 관련하여 관심을 가질 수 있는 사항들에 대하여 하기와 같이 알려 드리는 바입니다.
1) 공개제도의 적용에 따라 일반적으로 2000년 11월 29일 이후 출원된 건에 대해서는 18개월후에 공개가 이루어지게 됨을 알려 드립니다.
따라서, 대략 2002년 5월 경부터는 공개된 자료들을 보실수가 있을 것으로 판단을 합니다.
2) 다만, 상기 일자의 이전에 출원된 건이라고 하여도 출원인이 원하면 공개가 이루어질 수 있음을 알려 드립니다.
3) 또한, 우리나라의 경우는 출원일로부터 18개월이 지나면 의무적으로 공개가 이루어지나 미국의 경우 출원인이 비공개 요청을 하게 되면 공개가 이루어지지 않는 제도를 도입하였음을 알려 드립니다.
다만, 비공개요구는 미국내에서만 특허신청을 하고 다른 나라에서는 특허신청을 하지 않는 경우에만 해당이 이루어집니다.
4) 공개가 이루어지게 되면 2개월 이내에서 제3자가 이의신청을 할 수가 있습니다.
다만, 이들 이의신청 자료는 심사관의 심사에 참고 자료로 활용이 되어지게 됩니다. 일종의 우리나라의 정보제공의 제도와 유사합니다.
5) 특허존속기간에 대한 조정 제도가 도입되었습니다.
이것은 대략 제약관련특허에 해당하는 것으로서 우리나라에서의 제약에 대한 승인에 관련되어 기한이 소요되는경우 특허권의 기한을 연장하는 제도와 유사하다고 이해를 하시면 됩니다.
6) 출원 업무를 일시 중단하는 정지신청제도가 도입되었습니다.
이것은 출원을 하고 신청한 기술이 정확하게 향후 추세를 반영하지 못하거나 또는 보호되어야 할 범위를 정확하게 표현하지 못한경우 정지 신청을 통하여 출원심사과정을 정지시키면서 비용의 추가 지급을 막고 자신의 불완전한 기술상태가 타인에게 전면적으로 공개되는 것을 막고자 하는 제도 입니다.
정지기한은 3년까지 입니다.
참고 바랍니다.
각 나라의 특허제도에 대한 변동에 의하여 상식적으로 알 사항들이 발생하는 경우 본 란을 통하여 알려 드리도록 하겠습니다.
아울러, 변동되는 제도에 대해서는 저희 세계산업재산권 제도 정보를 통하여 업데이트가 이루어짐을 알려 드립니다. |
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