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공지사항 |
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| 미국의 하이웨이 심사 제도에 대한 구체적 안내사항 (조회수: 3975) |
한국의 특허출원 내용을 기반으로 한 미국의 하이웨이 심사제도에 대하여 하기와 같이 알려 드리오니 별도의 심사없이 하이웨이 제도에의한 등록을 원하시면 연락 주시기 바랍니다.
1. 이용 요건
(1) 대상 출원
1) 한국 특허출원을 기초로 하여 미국에 우선권 주장한 출원으로서, 국내에서 특허 가능하다는 명시 또는 특허결정을 받은 출원.
2) 한국 특허출원을 기초로 하여 PCT 출원 후 미국을 지정국으로 하여 국내단계 진입한 출원으로서, 국내에서 특허 가능하다는 명시 또는 특허 결정을 받은 출원.
3) PCT 출원으로 미국과 한국을 지정국으로 하여 국내단계에 진입한 출원으로서, 국내에서 특허 가능하다는 명시 또는 특허 결정을 받은 출원.
4) 한국 특허 출원은 우선원 주장의 기초가 된 출원으로부터 명백히 파생된 출원(분할, 변경, 국내우선권 주장 출원).
(2) 한국 출원이 특허 가능하다고 판단된 청구항을 한 개 이상 가질 것.
(3) 미국 특허 출원의 모든 청구항이 한국 특허출원 중 특허가능하다고 판단된 청구항과 상응(sufficiently correspond)할 것.(주의: 미국은 한국 출원과 정확히 상응하는 청구항만 인정, 한국은 미국 출원과 상응하되 한정/부가한 청구항도 인정)
(4) 미국 특허 출원에 대한 심사가 미착수된 건일 것.
(5) 신청료가 납부될 것
2. 제출 서류
(1) 한국의 특허 가능 청구항 및 영어 번역문
(2) 한국의 심사관련 통지서(의견제출통지서, 거절결정서) 및 영어 번역문(주의: 보정각하 결정서는 제외)
(3) 한국 심사시 인용된 선행기술 문헌(IDS)
(4) 청구항 대응관계 설명표
(5) 번역 정확 진술서
3. 이후 절차
(1) 조기 심사 여부 결정 통지, 요건 미충족시 1회 보완 가능
(2) 보정 시 한국 특허 가능 청구항과 상응하지 않으면 보정 인정 안 됨
(3) 조기 심사 결정 후에도 한국 출원에 관한 심사관련 통지서 제출 의무
(4) 조기 심사 결정된 출원의 계속 출원은 별도로 PPH 신청해야 함
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